Parylene लेपित चुंबक

नियोडिमियम Parylene लेपित चुंबक

Parylene Poly-para-xylene का सामान्य नाम है जिसे 1947 में मैनचेस्टर विश्वविद्यालय में शोधकर्ता द्वारा तैयार किया गया था। Parylene ने पहली बार U.Smilitary और Aerospace उद्योग में आवेदन किया था, जब यूनियन कार्बाइड ने बयान प्रक्रिया द्वारा parylene पतली फिल्म तैयार की थी। आजकल, ऑटोमोटिव वाष्प जमाव उपकरण के विकास के कारण विभिन्न क्षेत्रों में पैरीलीन कोटिंग का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है जैसे कि पैरीलीन लेपित चुंबक। Parylene के सबसे आम प्रकार Parylene N और Parylene C हैं।

Parylene कोटिंग की रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) प्रक्रिया

पैरालीन कोटिंग की रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया में शामिल हैं:

1. उच्च बनाने की क्रिया प्रक्रिया: ठोस di-para-xylene को वैक्यूम स्थिति में 120 डिग्री सेल्सियस के नीचे गैस चरण में उभारा जाएगा।

2. पायरोलिसिस प्रक्रिया: 650 डिग्री सेल्सियस के नीचे पायरोलिसिस प्रतिक्रिया के बाद डाई-पैरा-ज़ाइलीन गैस प्रतिक्रियाशील मोनोमर में विघटित हो जाएगी।

3.डिपोजिशन प्रक्रिया: रिएक्टिव मोनोमर डिपोजिशन चम्फर में प्रवेश करने के बाद वर्कपीस की सतह पर जमा होगा, फिर एक दूसरे के साथ पोलीमराइज़ किया जाएगा।

Neodymium Parylene लेपित चुंबक के लाभ

1. चुंबक के लिए अक्सर उपयोग की जाने वाली कोटिंग के विपरीत, सूक्ष्म चुंबक के लिए पैरीलीन कोटिंग अच्छी तरह से उपयुक्त है।

2. वैक्यूम वाष्प जमाव प्रक्रिया के दौरान प्रतिक्रियाशील मोनोमर इसमें गिरने के कारण Parylene लेपित चुंबक पिन छेद से मुक्त है।

3. Parylene कोटिंग एक प्रकार की तनाव मुक्त पारदर्शी फिल्म है।

कोटिंग मोटाई की एकरूपता उत्कृष्ट है।

4. Parylene लेपित मैग्नेट में बेहतर उच्च तापमान स्थिरता और नमी प्रतिरोध है।

5. रासायनिक प्रतिरोध के अलावा, बायोकम्पैटिबिलिटी के कारण पैरालीन लेपित चुंबक का उपयोग चिकित्सा क्षेत्र में भी किया जा सकता है।